酸化チタンの光触媒膜の被覆方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：大野精市
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-222563
公開番号（公開出願番号）：特開2001-046882
出願日： 1999年08月05日
公開日（公表日）： 2001年02月20日
要約：

【要約】【課題】加熱したガラス基体表面にスパッタリング法により光触媒活性を有する酸化チタン膜を被覆すると、ガラス基体の厚みが厚くかつ面積が大きい場合、ガラス基体を被覆室から大気中に熱割れを生じることなく迅速に取り出すことが困難であるため、被覆の生産効率が低いという課題があった。また、スパッタリング装置の加熱ゾーンを大きくする必要があり、設備コストが高価であるという課題があった。【解決手段】カソードを複数配置したインライン型のスパッタリング装置で、加熱したガラス基体上にチタン金属をターゲットとするスパッタリングをすることにより、基体上にアナターゼ型の結晶の第1の酸化チタン膜を被覆し、その後引き続いて第1の酸化チタン膜の表面に第2の酸化チタン膜を、第1の酸化チタン膜を被覆したときよりも低いガラス基体温度で被覆する。

請求項（抜粋）：

加熱した基体上に、チタンを含有するターゲットを減圧した雰囲気内でスパッタリングすることによりアナターゼ型結晶の第1の酸化チタン膜を被覆し、その後前記第1の酸化チタン膜上に、前記第1の酸化チタン膜を被覆したときよりも低い基体温度で第2の酸化チタン膜を被覆することを特徴とする酸化チタンの光触媒膜の被覆方法。

IPC (5件)：

B01J 35/02 , B01J 21/06 , B01J 37/02 301 , C01G 23/04 , C23C 14/08

FI (5件)：

B01J 35/02 J , B01J 21/06 M , B01J 37/02 301 P , C01G 23/04 C , C23C 14/08 E

Fターム (41件)：

4G047CA02 , 4G047CB04 , 4G047CC03 , 4G047CD02 , 4G047CD07 , 4G069AA03 , 4G069AA08 , 4G069BA01A , 4G069BA02A , 4G069BA04A , 4G069BA04B , 4G069BA14A , 4G069BA14B , 4G069BA48A , 4G069BB11A , 4G069BD05A , 4G069CA01 , 4G069CA11 , 4G069CA17 , 4G069EA07 , 4G069EB15X , 4G069EB15Y , 4G069EB16X , 4G069EB16Y , 4G069EC22X , 4G069EC22Y , 4G069ED04 , 4G069FA03 , 4G069FB02 , 4G069FB40 , 4G069FC07 , 4K029AA09 , 4K029AA24 , 4K029BA17 , 4K029BB02 , 4K029BB08 , 4K029BC00 , 4K029BD00 , 4K029CA06 , 4K029DC03 , 4K029DC39

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