特許
J-GLOBAL ID:200903030203644550

放射線重合可能混合物およびハンダレジストマスクの製造法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 佐藤 一雄 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-339178
公開番号(公開出願番号):特開平6-027666
出願日: 1992年12月18日
公開日(公表日): 1994年02月04日
要約:
【要約】【目的】 改良された腐蝕耐性および絶縁耐性を有する放射線重合可能混合物の提供。【構成】 以下の成分を含む放射線重合可能混合物。a)フリーラジカル重合可能基を少なくとも一つ有する化合物。b)水性アルカリ溶液には可溶である、水不溶性重合体状バインダ-。c)ケイ酸またはケイ酸塩を基にした微粒子の鉱物性顔料で、それをもって反応活性であって、さらにフリーラジカル架橋可能あるいは熱架橋可能な基を含む化合物と反応して、その表面が改質されているもの。d)放射線により活性化される重合開始剤または重合開始剤の組み合わせ。e)それ自身で、バインダー(b)と共に、あるいは化合物(a)の重合体と共に、加熱により架橋可能な化合物。
請求項(抜粋):
以下のものを含んでなる、放射線重合可能混合物。a)フリーラジカルにより開始される炭素鎖成長重合による架橋重合体の形成が可能な末端エチレン性不飽和基を少なくとも一つ有する化合物。b)水性アルカリ溶液には可溶である、水不溶性重合体状バインダー。c)ケイ酸またはケイ酸塩を基にした、微粒子の鉱物性顔料。d)放射線により活性化された重合開始剤または重合開始剤の組み合わせ。e)それ自身で、バインダ-(b)と共に、あるいは化合物(a)の重合体と共に、加熱により架橋可能な化合物。ここで顔料(c)の表面は、それと反応性であると共にフリーラジカル架橋が可能であるか熱架橋が可能である基を含む化合物との反応で改質されている。
IPC (5件):
G03F 7/038 ,  G03F 7/004 505 ,  G03F 7/028 ,  G03F 7/075 501 ,  H05K 3/28

前のページに戻る