試料の処理システム

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：大塚康徳 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-316577
公開番号（公開出願番号）：特開2000-150836
出願日： 1998年11月06日
公開日（公表日）： 2000年05月30日
要約：

【要約】【課題】SOI基板の製造等に好適な処理システムを提供する。【解決手段】この処理システム7000は、貼り合わせ基板50を保持する保持機構7100を円上に略等間隔に搭載したターンテーブル7060と、ターンテーブル7060を所定角度ずつ回動させて各保持機構7100により保持された貼り合わせ基板又は分離後の基板を各作業位置7110〜7150に移動させるための駆動機構と、保持機構7100により保持された貼り合わせ基板又は分離後の基板に対して各作業位置7110〜7150で処理を施すための芯出し装置7400、分離装置7200及び洗浄/乾燥装置7500とを備える。

請求項（抜粋）：

試料を処理する処理システムであって、試料を保持する保持機構を円上に略等間隔に搭載したターンテーブルと、前記ターンテーブルを所定角度ずつ回動させて各保持機構により保持された各試料を各作業位置に移動させるための駆動機構と、前記保持機構により保持された試料に対して所定の作業位置で処理を施すための少なくとも1つの処理装置と、を備えることを特徴とする処理システム。

IPC (4件)：

H01L 27/12 , H01L 21/02 , H01L 21/306 , H01L 21/68

FI (4件)：

H01L 27/12 B , H01L 21/02 B , H01L 21/68 A , H01L 21/306 C

Fターム (23件)：

5F031CA02 , 5F031FA01 , 5F031FA11 , 5F031FA12 , 5F031GA24 , 5F031GA43 , 5F031GA54 , 5F031HA13 , 5F031KA11 , 5F031MA23 , 5F031MA28 , 5F031MA31 , 5F043AA09 , 5F043BB30 , 5F043DD13 , 5F043DD23 , 5F043DD30 , 5F043EE07 , 5F043EE08 , 5F043EE35 , 5F043EE36 , 5F043EE40 , 5F043GG10

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