特許

J-GLOBAL ID：200903030218316842

プラズマ再結合X線レーザー露光装置

発明者： 原 民夫 ,  安藤 剛三 ,  青柳 克信
出願人/特許権者： 理化学研究所
代理人 (1件)： 須山 佐一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-143632
公開番号（公開出願番号）：特開平8-017701
出願日： 1994年06月24日
公開日（公表日）： 1996年01月19日
要約：

【要約】【目的】 軟X線を用いて微細なパターンの転写を行うことができ、かつ、小型で安価なプラズマ再結合X線レーザー露光装置を提供する。【構成】 励起レーザー照射機構4からレーザー発振器1及び増幅器2,3にパルス列レーザーを照射し、レーザー発振器1及び増幅器2,3で発振、増幅したプラズマ再結合X線レーザーを、光学系7により、露光パターン7aを介してウエハステージ6上の半導体ウエハ5に照射し、露光を行うよう構成されている。

請求項（抜粋）：

多価イオンを含むプラズマを発生させるためのターゲットと、前記プラズマの発生領域を挟んで対向配置されたミラーであって、前記プラズマの再結合により発生したX線レーザーをこれらの間で反射するミラーとを有するX線レーザー発振手段と、複数のレーザー短パルスからなるパルス列レーザーを前記ターゲットに照射する励起レーザー照射手段であって、前記パルス列レーザーの前部の前記レーザー短パルスで生成された多価イオンが強い再結合を引き起こすまでには電子温度が下がらない程度に、後部のレーザー短パルスの強度を低下させるよう構成された励起レーザー照射手段と、被露光基板を保持する基板保持手段と、前記X線レーザー発振手段からのX線レーザーを、露光パターンを介して、前記被露光基板に照射する光学系とを具備したことを特徴とするプラズマ再結合X線レーザー露光装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  H01S 3/094 ,  H01S 3/227 ,  H05G 2/00

FI (6件)：

H01L 21/30 531 A ,  H01L 21/30 531 S ,  H01S 3/094 Z ,  H01S 3/094 S ,  H01S 3/22 M ,  H05G 1/00 K