特許
J-GLOBAL ID：200903030235048436
BNを用いた高耐熱性軟X線多層膜反射鏡
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
杉村 暁秀 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-344569
公開番号（公開出願番号）：特開平6-194497
出願日： 1992年12月24日
公開日（公表日）： 1994年07月15日
要約：
【要約】【目的】 本発明は次世代超LSI作製のためのX線縮小投影露光装置の光学系として不可欠の耐熱性軟X線多層膜反射鏡としてBNを用いた高耐熱性軟X線反射鏡、軟X線多層膜反射鏡、狭帯域軟X線反射鏡を提供しようとするものである。【構成】 繰返し単位がMo/BN又はW/BNの積層体であって、繰返し数が50〜100 で、1層当りの厚さが30〜60Åである積層多層膜で、その総膜厚さが4500〜9000ÅであるMo/BN又はW/BNの繰返し積層多層膜を、軟X線又はレーザーを光源とする光学系の反射鏡の反射面に、コーティングしたことを特徴とする高耐熱性軟X線多層膜反射鏡。
請求項（抜粋）：
繰返し単位がMo/BN又はW/BNの積層体であって、繰返し数が50〜100 で、1層当りの厚さが30〜60Åである積層多層膜で、その総膜厚さが4500〜9000ÅであるMo/BN又はW/BNの繰返し積層多層膜を、軟X線又はレーザーを光源とする光学系の反射鏡の反射面に、コーティングしたことを特徴とする高耐熱性軟X線多層膜反射鏡。
IPC (2件)：
引用特許：
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