特許
J-GLOBAL ID:200903030243612731

フェノール材料からポリマーを調製する方法およびこれに関連する組成物

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 谷 義一 ,  阿部 和夫
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2009-522779
公開番号(公開出願番号):特表2009-545648
出願日: 2007年07月21日
公開日(公表日): 2009年12月24日
要約:
ポリ(ヒドロキシスチレン)などの安定なポリマーを製造する方法であって、非アミン塩基性触媒および極性有機溶媒の存在下で対応するフェノールを脱カルボキシル化し、その後、重合する方法。
請求項(抜粋):
ポリ(ヒドロキシスチレン)を製造する方法であって、 a)一般構造:
IPC (1件):
C08F 12/22
FI (1件):
C08F12/22
Fターム (23件):
4J100AB02Q ,  4J100AB03Q ,  4J100AB07P ,  4J100AB07Q ,  4J100AB16Q ,  4J100AL03Q ,  4J100AL04Q ,  4J100AL08Q ,  4J100BA03P ,  4J100BA04Q ,  4J100BA05P ,  4J100BB11Q ,  4J100BC08Q ,  4J100BC09Q ,  4J100CA01 ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100DA01 ,  4J100DA04 ,  4J100FA19 ,  4J100JA03 ,  4J100JA07 ,  4J100JA28
引用特許:
審査官引用 (2件)
  • 特開昭58-063707
  • 特開昭52-006791

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