特許
J-GLOBAL ID:200903030258508914

表示装置及びその作製方法

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-258180
公開番号(公開出願番号):特開2007-133371
出願日: 2006年09月25日
公開日(公表日): 2007年05月31日
要約:
【課題】画素電極上に金属膜を形成して積層構造とする際に、1つのレジストマスクを用いて、画素電極及び金属膜を形成することを課題とする。【解決手段】画素電極となる導電膜と金属膜を積層させる。金属膜上に半透部を有する露光マスクを用いて、膜厚の厚い領域と該領域よりも膜厚が薄い領域とを有するレジストパターンを形成する。レジストパターンを用いて画素電極と、画素電極上の一部に接する金属膜を形成する。以上により、1つのレジストマスクを用いて、画素電極及び金属膜を形成することが可能となる。【選択図】図2
請求項(抜粋):
基板上の薄膜トランジスタと、 前記薄膜トランジスタに電気的に接続する画素電極と、 前記画素電極上に接する金属膜とを有し、 前記画素電極には段差部があり、前記金属膜は前記画素電極の前記段差部を覆うように、前記画素電極と接しており、 前記金属膜から露出する前記画素電極は平坦な面上に形成されていることを特徴とする表示装置。
IPC (7件):
G09F 9/30 ,  G02F 1/136 ,  G02F 1/134 ,  H01L 51/50 ,  H05B 33/10 ,  H05B 33/12 ,  H05B 33/22
FI (7件):
G09F9/30 338 ,  G02F1/1368 ,  G02F1/1343 ,  H05B33/14 A ,  H05B33/10 ,  H05B33/12 B ,  H05B33/22 Z
Fターム (30件):
2H092GA29 ,  2H092JA24 ,  2H092JA46 ,  2H092JB51 ,  2H092JB56 ,  2H092MA17 ,  2H092MA30 ,  3K107AA01 ,  3K107AA05 ,  3K107BB01 ,  3K107CC29 ,  3K107CC45 ,  3K107DD24 ,  3K107DD37 ,  3K107DD44X ,  3K107DD44Z ,  3K107DD89 ,  3K107DD90 ,  3K107EE04 ,  3K107EE27 ,  3K107FF15 ,  3K107GG12 ,  3K107GG28 ,  5C094AA43 ,  5C094AA44 ,  5C094BA03 ,  5C094BA27 ,  5C094DA13 ,  5C094EA04 ,  5C094HA08
引用特許:
出願人引用 (1件) 審査官引用 (11件)
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