ネガ型レジスト組成物

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：萩野平 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-065600
公開番号（公開出願番号）：特開平11-258802
出願日： 1998年03月16日
公開日（公表日）： 1999年09月24日
要約：

【要約】【課題】 220nm以下の露光光源を使用しても、良好な感度、解像度を与え、十分な耐ドライエッチング性を有し、且つ経時保存時での十分な安定性を有するネガ型レジスト組成物を提供すること。【解決手段】活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、ヒドロキシル基及びカルボキシル基を有し、かつ主鎖に脂環式基を有するポリシクロオレフィン樹脂及び環状イミド化合物を含有するネガ型レジスト組成物。

請求項（抜粋）：

(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、(B)ヒドロキシル基及びカルボキシル基を有し、かつ主鎖に脂環式基を有するポリシクロオレフィン樹脂、及び(C)環状イミド化合物を含有することを特徴とするネガ型レジスト組成物。

IPC (5件)：

G03F 7/038 601 , C08L 33/02 , C08L 35/00 , C08L 45/00 , G03F 7/037 501

FI (5件)：

G03F 7/038 601 , C08L 33/02 , C08L 35/00 , C08L 45/00 , G03F 7/037 501

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