シリカ系被膜形成用塗布液、シリカ系被膜の製造法、シリカ系被膜、これを用いた半導体素子及び多層配線板

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：若林邦彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-076305
公開番号（公開出願番号）：特開2001-262062
出願日： 2000年03月14日
公開日（公表日）： 2001年09月26日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】成膜性が良好で低誘電率であるシリカ系膜を形成できるシリカ系膜形成用塗布液、これを用いたシリカ系膜の製造法を提供する。【解決手段】 (A)、(B)はそれぞれ、一般式(I)、(III)で表されるアルコキシシランを加水分解重縮合して得られる重合体で、前者はケイ素数1ユニット当たりの炭素数が0.3以下、後者は0.6以上、であるポリシロキサン及び溶媒を含有するシリカ系塗布液(II)、(IV)であり、これらの組み合わから成るシリカ系塗布液、この液を用いた皮膜の製造法、皮膜、この皮膜を用いた半導体素子及び多層配線板。R1nSi(OR2)4-n (I)R3nSi(OR4)4-n (III)(式中R1,R3は炭素数1〜6のアルキル基或いはアリール基、R2,R4は炭素数1〜4のアルキル基、nは0〜2の整数)

請求項（抜粋）：

(A)一般式(I)【化1】R1 n Si(OR2 )4-n (I)(式中R1 は炭素数1〜6のアルキル基またはアリール基、R2 は炭素数1〜4のアルキル基、nは0〜2の整数を意味し、複数個のR1 、R2 は同一でも異なっていてもよい)で表せられるアルコキシシランを加水分解縮重合して製造されたものでありケイ素数1ユニット当たりの炭素数が0.3ユニット以下であるポリシロキサン及び溶媒を含有するシリカ系被膜形成用塗布液(II)並びに(B)一般式 (III)【化2】R3 n Si(OR4 )4-n (III)(式中R3 は炭素数1〜6のアルキル基またはアリール基、R4 は炭素数1〜4のアルキル基、nは0〜2の整数を意味し、複数個のR3 、R4 は同一でも異なっていてもよい)で表せられるアルコキシシランを加水分解縮重合して製造されたものでありケイ素数1ユニット当たりの炭素数が0.6ユニット以上であるポリシロキサン及び溶媒を含有してなるシリカ系被膜形成用塗布液(IV)の組み合わせからなるシリカ系被膜形成用塗布液。

IPC (4件)：

C09D183/04 , B05D 7/00 , B05D 7/24 302 , H05K 3/46

FI (4件)：

C09D183/04 , B05D 7/00 H , B05D 7/24 302 Y , H05K 3/46 T

Fターム (42件)：

4D075AE16 , 4D075BB24Y , 4D075BB28Z , 4D075BB56Z , 4D075BB93Y , 4D075BB93Z , 4D075CA13 , 4D075CA18 , 4D075CA21 , 4D075CA23 , 4D075DA06 , 4D075DB11 , 4D075DC19 , 4D075DC22 , 4D075EA07 , 4D075EB43 , 4D075EB47 , 4J038DL021 , 4J038DL022 , 4J038DL031 , 4J038DL032 , 4J038JA19 , 4J038JA25 , 4J038JA56 , 4J038JA57 , 4J038JC30 , 4J038KA06 , 4J038MA06 , 4J038MA09 , 4J038NA21 , 4J038PA19 , 4J038PB09 , 5E346AA02 , 5E346AA12 , 5E346AA26 , 5E346CC08 , 5E346CC16 , 5E346CC43 , 5E346DD03 , 5E346EE33 , 5E346HH06 , 5E346HH18

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