特許

J-GLOBAL ID：200903030272818918

MEMS装置を使用したマスクレスの露光システム

発明者： ジェームズ・イー・サンフォード
出願人/特許権者： ジェームズ・イー・サンフォード
代理人 (1件)： 社本 一夫 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-182334
公開番号（公開出願番号）：特開2003-015311
出願日： 2001年06月15日
公開日（公表日）： 2003年01月17日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】感光処理表面を選択的に露光させるためのマスクレス露光システムを提供する。【解決手段】本システムは細長いアパーチャ24を有する半導体基板29を備える。一連のシャッター及びそれに連係したガイド手段が、従来のウェーハ処理方法で基板上に形成される。シャッター33,33A,33Bは、アパーチャ30を覆う第1の位置及びアパーチャを露出する第2の位置の間を移動する。対応する一連のコンピュータ制御のアクチュエータは、電磁コイル37の形態で、その第1及び第2の位置間で各シャッターを選択的に摺動するようシャッターと協働する。光ビームは、アパーチャに向けられ、シャッターは、アパーチャから出たパターン形成された光ビームを形成する。コンピュータ制御のステッパーは、処理材料の異なる部分にパターン形成光ビームを向けるため、シャッターアクチュエータと同期して、パターン形成光ビームと、感光処理表面との間の関係を調整する。

請求項（抜粋）：

感光処理表面を有する処理材料を選択的に露光するためのマスクレス露光システムであって、該マスクレス露光システムは、(a) 細長いアパーチャが形成され、且つ、略平面内に置かれている基板と、(b) 略前記細長いアパーチャに向けて配置された光ビームの源と、(c) 前記基板上で移動可能に支持された複数のシャッターエレメントであって、該シャッターエレメントの各々は、前記細長いアパーチャの一部分を覆って該部分を光が通過することを防止する第1の位置、及び、該部分を光が通過することを可能にするため該細長いアパーチャの一部分を露出する第2の位置を有し且つ前記基板の平面に略平行に延在し、該基板の該細長いアパーチャから出るパターン形成された光ビームを形成する、前記複数のシャッターエレメントと、(d) 複数のアクチュエータであって、該アクチュエータの各々は、前記複数のシャッターエレメントの連係される各々一つと協働して、その第1の位置及びその第2の位置の間を選択に移動させる、前記複数のアクチュエータと、(e) 感光処理表面を有する処理材料を支持するための処理材料支持部と、(f) 前記パターン形成された光ビームを前記処理材料の感光処理表面の異なる部分に差し向けるため、前記基板の細長いアパーチャから出る該パターン形成された光ビーム及び前記処理材料支持部の間の関係を調整するためのステッパーと、を組み合わせて含む、前記マスクレス露光システム。

IPC (5件)：

G03F 7/20 505 ,  B81B 5/00 ,  B81C 1/00 ,  G02B 26/02 ,  H01L 21/027

FI (6件)：

G03F 7/20 505 ,  B81B 5/00 ,  B81C 1/00 ,  G02B 26/02 B ,  H01L 21/30 515 D ,  H01L 21/30 529

Fターム (16件)：

2H041AA04 ,  2H041AB04 ,  2H041AC04 ,  2H041AZ01 ,  2H041AZ08 ,  2H097AA03 ,  2H097BA10 ,  2H097BB10 ,  2H097CA17 ,  2H097EA01 ,  2H097LA09 ,  2H097LA10 ,  5F046BA03 ,  5F046CB05 ,  5F046CB06 ,  5F046CB22