特許
J-GLOBAL ID：200903030281373066
多層ミラーおよびその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
杉村 暁秀 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-243835
公開番号（公開出願番号）：特開平7-174913
出願日： 1994年10月07日
公開日（公表日）： 1995年07月14日
要約：
【要約】【目的】 多層ミラーおよびその製造方法を提供する。【構成】 X線の領域で使用される多層ミラーの製造法。従来の多層ミラーは、一般に吸収層およびスペーサ層の繰り返しによって構成されている。層の表面の粗さを中和するために、堆積後にイオンエッチングによって平坦化することが知られている。この構成の欠点は、一方の層の材料が他方の層に浸透し、多層ミラーの層の界面部分および厚さが、もはや適切には規定されないことである。本発明によって、多層ミラーを、一方の材料を他方の材料の層に浸透させた後、第2の材料の元の層の厚さ分をエッチングによって除去することによって製造する。この工程を交互に繰り返すことによって、異なった材料の別々の層の一様な交互の構成でない、他方の材料が浸透している一方の材料の層が繰り返される多層ミラーが得られる。
請求項（抜粋）：
第1の材料で第1の厚さの第1の層を基板上に堆積し、第2の材料で第2の厚さの第2の層を第1の層上に堆積し、第2の層からイオン衝撃による材料のイオンエッチングによって材料を除去し、上記の工程を1回以上繰り返す、多層ミラーの製造法において、各々の繰り返しにおいて、第2の層のイオン衝撃を、第2の層の厚さに等しい量の材料が除去されるまで続けることを特徴とする、多層ミラーの製造法。
IPC (2件)：
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