特許
J-GLOBAL ID：200903030289624114
描画処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
柳澤 正夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-062661
公開番号（公開出願番号）：特開2001-249774
出願日： 2000年03月07日
公開日（公表日）： 2001年09月14日
要約：
【要約】【課題】 描画処理を行う際に用いるメモリ量を低減するとともに、高速に描画処理を行うことができる描画処理装置を提供する。【解決手段】 描画入力データは、中間言語変換部1でバンドごとの中間言語データに変換してメインメモリ3に格納する。1バンドの描画処理に際し、当該バンドの中間言語データをサブ中間言語変換部2でサブバンド単位のサブ中間言語データに変換する。そしてサブバンド描画部4においてサブバンド単位で描画処理を行い、生成されたビットマップデータをバンドバッファメモリ7に格納する。主走査方向に並ぶサブバンドについて描画処理が終了したら、サブバンドごとに生成されたビットマップデータをライン単位のデータとしてバンドバッファメモリ7から読み出し、出力制御部10に出力する。
請求項（抜粋）：
入力された描画入力データに基づいて1ページを複数の帯状領域に分割したバンドごとに中間言語データに変換する中間言語変換手段と、該中間言語変換手段によって変換されたバンドごとの中間言語データを1つのバンドを複数の領域に分割したサブバンドごとのサブ中間言語データに変換するサブ中間言語変換手段と、該サブ中間言語変換手段によって変換されたサブ中間言語データに基づいて前記サブバンドごとに画像を生成するサブバンド描画手段を有することを特徴とする描画処理装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G06F 3/12 B
, B41J 5/30 Z
2C087BC02
, 2C087BC05
, 2C087BC07
, 2C087BD13
, 5B021BB04
, 5B021CC02
, 5B021CC05
, 5B021CC06
, 5B021DD04
, 5B021DD10
, 9A001BB03
, 9A001BB04
, 9A001EE02
, 9A001HH23
