特許
J-GLOBAL ID:200903030298605238

多孔体細孔の連続微細化方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 内田 明 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-055949
公開番号(公開出願番号):特開平7-267765
出願日: 1994年03月25日
公開日(公表日): 1995年10月17日
要約:
【要約】【目的】 ガス分離膜の製造に適用できる多孔体細孔の連続微細化方法に関する。【構成】 無機多孔体の細孔内にシリカゲルまたはアルミナゲルを担持し、細孔を微細化する方法において、第1の円筒の表面に貼付した保水能力を有する繊維状あるいは海綿状物質をシリカゾルまたはアルミナゾルが入っている液槽に一部を浸してゾルを含浸させた後、第1の円筒と同構造の第2の円筒に当該ゾルの一部を転移させ、さらに第2の円筒に弾力性を有するローラを接触させて当該ゾルをローラ表面に均一に転移させた後、当該ローラに接触する無機多孔体に当該ゾルを転移させ、当該多孔体を約350〜600°Cで焼成処理することにより、封孔材内部に平均細孔径10〜20Åの微細孔を形成し、封孔材の担持及びその後約350〜600°C焼成処理するという操作を複数回実施した後、当該多孔体を700〜800°Cで焼成処理して多孔体細孔を連続微細化する方法。
請求項(抜粋):
無機多孔体の細孔内に、シリカゲルまたはアルミナゲルを担持し、細孔を微細化する方法において、第1の円筒の表面に貼付した保水能力を有する繊維状あるいは海綿状物質をシリカゾルまたはアルミナゾルが入っている液槽に一部を浸してゾルを含浸させた後、第1の円筒と同構造の第2の円筒に当該ゾルの一部を転移させ、さらに第2の円筒に弾力性を有するローラを接触させて当該ゾルをローラ表面に均一に転移させた後、当該ローラに接触する無機多孔体に当該ゾルを転移させ、当該多孔体を約350〜600°Cで焼成処理することにより、封孔材内部に平均細孔径10〜20Åの微細孔を形成し、封孔材の担持及びその後約350〜600°C焼成処理するという操作を複数回実施した後、当該多孔体を700〜800°Cで焼成処理することを特徴とする多孔体細孔の連続微細化方法。
IPC (4件):
C04B 41/89 ,  B01D 71/02 500 ,  C01B 3/50 ,  C04B 41/85

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