特許

J-GLOBAL ID：200903030322716992

積層体及びその製造方法

発明者： 吉川 素子 ,  中川 善博 ,  八房 和也 ,  相澤 哲生 ,  谷口 正幸
出願人/特許権者： 凸版印刷株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-300884
公開番号（公開出願番号）：特開平6-143521
出願日： 1992年11月11日
公開日（公表日）： 1994年05月24日
要約：

【要約】【目的】3-ヒドロキシ酪酸と3-ヒドロキシ吉草酸の共重合体(以下、P(3HB-3HV)と示す)のみを基材上に薄膜で押出し、かつ押出しコーティング加工時に耳高、ブロッキングを起こさず、膜厚が安定しており、さらに基材とのラミネート強度も十分である積層体及びその製造方法を提供すること。【構成】重量平均分子量50万以上のP(3HB-3HV)を用い、基材側の層に3-ヒドロキシ吉草酸(以下、3HVと示す)含有率が10〜25%のP(3HB-3HV)を、最外側の層には3HV含有率3〜5%のP(3HB-3HV)を積層する。また、同時に基材上に基材側と最外側の層を共押出しコーティングし、積層した後、直ちに50〜80°Cの温度の雰囲気下にさらす。

請求項（抜粋）：

基材の片面または両面に3-ヒドロキシ酪酸と3-ヒドロキシ吉草酸の共重合体を積層した積層体において、前記3-ヒドロキシ酪酸・3-ヒドロキシ吉草酸共重合体の重量平均分子量が50万以上であり、かつ、3-ヒドロキシ吉草酸含有率が10〜25%の3-ヒドロキシ酪酸・3-ヒドロキシ吉草酸共重合体を基材側に、3-ヒドロキシ吉草酸含有率が3〜5%の3-ヒドロキシ酪酸・3-ヒドロキシ吉草酸共重合体を最外側に積層したことを特徴とする積層体。

IPC (4件)：

B32B 27/36 ,  B29D 9/00 ,  B32B 31/24 ,  B29K 67:00