特許
J-GLOBAL ID：200903030328668230

低濃度有機溶剤ガス処理装置

発明者：
川田 和之

川田 和之 について


出願人/特許権者：
東洋紡績株式会社

東洋紡績株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-290215
公開番号（公開出願番号）：特開平10-128048
出願日： 1996年10月31日
公開日（公表日）： 1998年05月19日
要約：
【要約】【課題】 濃度変動がある低濃度有機溶剤ガスを安全にそして低いランニングコストにて処理する方法およびその装置の提供。【解決手段】 低濃度溶剤ガスを吸着濃縮装置で処理し、吸着濃縮装置から取り出される濃縮ガスを燃焼装置で酸化分解する際、燃焼装置の出口温度を感知し、その温度に応じて吸着濃縮装置の吸着再生周期を調整する低濃度有機溶剤ガスの処理方法およびその装置。【効果】 溶剤ガス濃度が所定濃度より低い場合は、燃焼装置における濃縮ガスの昇温にかかるエネルギー使用量を低減させることが出来る。また、溶剤ガスの濃度が一時的に所定濃度より極めて高くなった場合には、濃縮ガスの濃度が所定濃度より上昇することなく燃焼装置の破損を防ぐことができる。
請求項（抜粋）：
低濃度の有機溶剤ガスを吸着濃縮装置の吸着体に通気吸着させガス中の有機溶剤を吸着除去した後、小量の加熱された脱着用気体により該吸着体に吸着された有機溶剤を脱着し、この吸着脱着を繰り返し行うことにより低濃度有機溶剤ガスから高濃度の濃縮ガスを取り出し、この取り出された濃縮ガスを燃焼装置で酸化分解する際に、燃焼装置の出口温度(燃焼後の排気温度)を感知し、それに応じて吸着濃縮装置の吸着脱着繰り返し周期を調整することを特徴とする低濃度有機溶剤ガスの処理方法。
IPC (6件)：
B01D 53/44 ,  B01D 53/81 ,  B01D 53/06 ,  B01D 53/34 ZAB ,  B01D 53/74 ,  B01D 53/86 ZAB
FI (5件)：
B01D 53/34 117 A ,  B01D 53/06 A ,  B01D 53/34 ZAB ,  B01D 53/34 117 G ,  B01D 53/36 ZAB G
引用特許：
出願人引用 (2件)
  • 溶剤含有ガスの触媒燃焼装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-292936   出願人：三菱重工業株式会社, 高菱エンジニアリング株式会社
  • 特開平3-296411

前のページに戻る

TOP

BOTTOM