特許
J-GLOBAL ID：200903030330305497

洗浄装置

発明者：
木野村 芳孝

木野村 芳孝 について

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平岡 照雄

平岡 照雄 について

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大川 光治郎

大川 光治郎 について


出願人/特許権者：
三洋電機株式会社

三洋電機株式会社 について

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株式会社 ギガテック

株式会社 ギガテック について

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大川興産株式会社

大川興産株式会社 について


代理人 (1件)： 須藤 克彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-249431
公開番号（公開出願番号）：特開2006-100264
出願日： 2005年08月30日
公開日（公表日）： 2006年04月13日
要約：
【課題】 マスクに付着した有機EL用の有機材料を除去することが可能な洗浄装置を提供する。【解決手段】 本発明の洗浄装置は、マスク10を所定の洗浄液により室温で洗浄処理する第1及び第2の洗浄槽21,22と、マスク10を所定のリンス液により室温でリンス処理する第1及び第2のリンス槽51,52と、重力を起因とする応力によってマスク10の金属薄膜に損傷を生じさせないように、水平以外の所定の角度を以って当該マスク10を保持し、当該所定の角度を以って保持された当該マスク10を第1及び第2の洗浄槽21,22及び第1及び第2のリンス槽51,52へ搬送する搬送装置240と、を備える。ここで、搬送装置240は、最初に水平な状態でマスク10を保持した後、当該マスク10を保持したまま、垂直方向に起き上がり、上記所定の角度を以って当該マスク10を保持する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
マスクに付着した有機EL用の有機材料を除去する洗浄装置であって、 前記マスクを所定の洗浄液により洗浄処理する洗浄槽と、 前記マスクを所定のリンス液によりリンス処理するリンス槽と、 重力を起因とする応力によって前記マスクの前記金属薄膜に損傷を生じさせないように、水平以外の所定の角度を以って当該マスクを保持し、当該所定の角度を以って保持された当該マスクを前記洗浄槽及び前記リンス槽へ搬送する搬送装置と、を備えることを特徴とする洗浄装置。
IPC (9件)：
H05B 33/10 ,  B08B 3/04 ,  B08B 3/08 ,  C23C 14/12 ,  C23C 14/24 ,  C23C 14/04 ,  C23C 14/00 ,  C23G 5/02 ,  H01L 51/50
FI (9件)：
H05B33/10 ,  B08B3/04 B ,  B08B3/08 Z ,  C23C14/12 ,  C23C14/24 G ,  C23C14/04 A ,  C23C14/00 B ,  C23G5/02 ,  H05B33/14 A
Fターム (40件)：
3B201AA02 ,  3B201AB23 ,  3B201AB38 ,  3B201AB44 ,  3B201BB04 ,  3B201BB82 ,  3B201BB85 ,  3B201BB87 ,  3B201BB92 ,  3B201BB95 ,  3B201CB15 ,  3B201CC01 ,  3B201CD22 ,  3B201CD31 ,  3B201CD42 ,  3B201CD43 ,  3K007AB18 ,  3K007DB03 ,  3K007FA01 ,  4K029BA62 ,  4K029DB06 ,  4K029FA09 ,  4K029HA01 ,  4K053PA02 ,  4K053PA07 ,  4K053PA11 ,  4K053QA04 ,  4K053QA07 ,  4K053RA32 ,  4K053RA41 ,  4K053SA06 ,  4K053TA12 ,  4K053TA17 ,  4K053XA01 ,  4K053XA08 ,  4K053XA14 ,  4K053XA24 ,  4K053XA46 ,  4K053YA06 ,  4K053YA10
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (6件)
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