特許

J-GLOBAL ID：200903030339236412

液晶表示素子の欠陥修正方法およびその装置

発明者： 鈴木 堅吉 ,  松田 正昭 ,  荻野 利男
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 武 顕次郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-312729
公開番号（公開出願番号）：特開平9-152568
出願日： 1995年11月30日
公開日（公表日）： 1997年06月10日
要約：

【要約】【課題】金属、絶縁膜からなる多層構造の全ての種類の欠陥の修正を液晶表示素子の各基板の最終工程においてのみ欠陥修正をおこなう。【解決手段】液晶表示素子を構成する基板の最終段階において、基板に成膜した多層薄膜2、3、4をその上層からエキシマレーザーによるアブレーション現象または光分解反応性エッチングの何れかにより順次除去し、除去された欠陥部分に所要の薄膜2’、3’、4’を同レーザーを用いたLCVDによる局所成膜を各々独立に、または組み合わせて施す。

請求項（抜粋）：

基板上に形成した薄膜に存在する局所的な欠陥を修正する液晶表示素子の欠陥修正方法において、エキシマレーザーによるアブレーション現象または光分解反応性エッチングの何れかによる前記局所的な欠陥部分の薄膜の除去と、エキシマレーザーを用いたLCVDにより前記除去された欠陥部分に所要の薄膜を成膜することを特徴とする液晶表示素子の欠陥修正方法。

IPC (2件)：

G02F 1/13 101 ,  G02F 1/1333 500

FI (2件)：

G02F 1/13 101 ,  G02F 1/1333 500