特許
J-GLOBAL ID：200903030339573974
露光装置及び該露光装置を用いてデバイスを製造する方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
丸島 儀一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-275519
公開番号（公開出願番号）：特開平7-130626
出願日： 1993年11月04日
公開日（公表日）： 1995年05月19日
要約：
【要約】【目的】 常に好ましい助走距離やオーバーラン距離を得ること。【構成】 露光光に対してレチクル11とウエハ14を走査することにより、光学系13を介してレチクルのパターンをウエハ上に投影する装置において、制御手段17、121、151により、レチクルやウエハを走査する時の助走距離やオーバーランの距離を走査速度に応じて変える。
請求項（抜粋）：
露光光に対して原板と基板を走査することにより前記原板のパターンを前記基板上に投影する露光装置において、前記原板及び/又は基板を走査する時の助走距離及び/又はオーバランの距離を前記原板及び/又は基板の走査速度に応じて変える手段とを有することを特徴とする露光装置。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
H01L 21/30 518
, H01L 21/30 516 D
