特許

J-GLOBAL ID：200903030342185314

積層構造の製造方法および積層構造、表示素子ならびに表示装置

発明者： 横山 誠一 ,  石川 典夫 ,  大和田 拓央
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 藤島 洋一郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-305285
公開番号（公開出願番号）：特開2005-011793
出願日： 2003年08月28日
公開日（公表日）： 2005年01月13日
要約：

【課題】 サイドエッチングを防止して良好な形状にパターニングすることができる積層構造の製造方法を提供する。【解決手段】 基板11の側から、下地層である平坦化層13を介して、ITOなどよりなる密着層14B、銀(Ag)または銀を含む合金よりなる反射層14AおよびITOなどよりなるバリア層14Cをこの順に積層したのち、バリア層14Cの上にマスク41を形成し、このマスク41を用いて一括してエッチングすることにより積層構造14を形成する。エッチングガスとしては、例えばメタン(CH4 )を含むものが好ましい。この積層構造14を陽極として、その上に絶縁膜、発光層を含む有機層、および陰極としての共通電極をこの順に積層して有機発光素子を形成する。積層構造14は、液晶ディスプレイの反射電極、反射膜あるいは配線としても使用可能である。【選択図】 図6

請求項（抜粋）：

基板に複数の層を順に積層する工程と、 前記複数の層の上にマスクを形成する工程と、 前記マスクを用いて前記複数の層を一括してエッチングする工程と を含むことを特徴とする積層構造の製造方法。

IPC (6件)：

H05B33/26 ,  H01L21/28 ,  H01L21/3205 ,  H01L21/3213 ,  H05B33/10 ,  H05B33/14

FI (7件)：

H05B33/26 Z ,  H01L21/28 E ,  H01L21/28 301R ,  H05B33/10 ,  H05B33/14 A ,  H01L21/88 D ,  H01L21/88 R

Fターム (79件)：

3K007AB03 ,  3K007AB11 ,  3K007AB18 ,  3K007DB03 ,  3K007FA01 ,  4M104AA01 ,  4M104AA10 ,  4M104BB02 ,  4M104BB04 ,  4M104BB08 ,  4M104BB13 ,  4M104BB36 ,  4M104CC01 ,  4M104DD08 ,  4M104DD09 ,  4M104DD16 ,  4M104DD20 ,  4M104DD34 ,  4M104DD37 ,  4M104DD43 ,  4M104DD48 ,  4M104DD52 ,  4M104DD53 ,  4M104DD65 ,  4M104FF18 ,  4M104GG04 ,  4M104GG09 ,  4M104GG10 ,  4M104GG14 ,  4M104GG20 ,  4M104HH03 ,  4M104HH09 ,  4M104HH12 ,  4M104HH14 ,  4M104HH16 ,  5F033HH07 ,  5F033HH08 ,  5F033HH14 ,  5F033HH17 ,  5F033HH38 ,  5F033JJ01 ,  5F033JJ08 ,  5F033JJ09 ,  5F033JJ14 ,  5F033JJ38 ,  5F033KK04 ,  5F033MM08 ,  5F033MM13 ,  5F033NN06 ,  5F033NN07 ,  5F033PP06 ,  5F033PP11 ,  5F033PP15 ,  5F033PP19 ,  5F033PP27 ,  5F033PP28 ,  5F033QQ08 ,  5F033QQ09 ,  5F033QQ10 ,  5F033QQ11 ,  5F033QQ15 ,  5F033QQ19 ,  5F033QQ37 ,  5F033RR04 ,  5F033RR06 ,  5F033RR14 ,  5F033RR22 ,  5F033SS11 ,  5F033SS22 ,  5F033VV00 ,  5F033VV15 ,  5F033XX01 ,  5F033XX03 ,  5F033XX13 ,  5F033XX14 ,  5F033XX16 ,  5F033XX18 ,  5F033XX20 ,  5F033XX21

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 有機エレクトロルミネッセンス素子
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-138189   出願人：森竜雄
• 発光素子及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-006383   出願人：ソニー株式会社

審査官引用 (6件)

• 透明導電性薄膜積層体及びそのエッチング方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-151896   出願人：三井化学株式会社
• 銀若しくは銀合金配線及びその形成方法並びに表示パネル基板
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-222024   出願人：パイオニア株式会社
• 発光素子及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-006383   出願人：ソニー株式会社
• 特開昭63-208043
  
• レジスト剥離剤組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-203755   出願人：三菱瓦斯化学株式会社
• 特開平4-254887