特許
J-GLOBAL ID：200903030346255562

塗布、現像装置及び塗布、現像方法

発明者：
石田 省貴

石田 省貴 について

, 
中原田 雅弘

中原田 雅弘 について

, 
山本 太郎

山本 太郎 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (2件)： 井上 俊夫 ,  水野 洋美
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-032204
公開番号（公開出願番号）：特開2006-222158
出願日： 2005年02月08日
公開日（公表日）： 2006年08月24日
要約：
【課題】レジストを基板に塗布し、液浸露光後の基板を現像するにあたって、パーティクル汚染を抑えることのできる塗布、現像装置を提供する。【解決手段】レジストを塗布する塗布ユニット及び現像液を供給して現像する現像ユニットを備えた処理ブロックB2と、液浸露光を行う露光装置B4とに接続されるインターフェイス部B3と、を備えた塗布、現像装置において、前記インターフェイス部B3に基板洗浄ユニット6と、第1の搬送機構と、第2の搬送機構とを備えた構成とする。露光後の基板を第1の搬送機構により基板洗浄ユニットに搬送して、当該洗浄ユニットにより洗浄された基板は第2の搬送機構を介して搬送されるため新たなパーティクルの付着が抑えられることで、処理ブロックB2の各処理ユニット及び当該各処理ユニットで処理される基板にパーティクル汚染が広がることを防ぐことができる。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
基板の表面にレジストを塗布する塗布ユニット及び露光された後の基板に現像液を供給して現像する現像ユニットが設けられた処理ブロックと、基板の表面に液層を形成して液浸露光を行う露光装置とに接続されるインターフェイス部と、を備えた塗布、現像装置において、 前記インターフェイス部は液浸露光後の基板に対して洗浄を行う基板洗浄ユニットと、 露光装置からの基板を基板洗浄ユニットに搬送する保持体を備えた第1の搬送機構と、 前記基板洗浄ユニットから基板を搬出して処理ブロックへ搬送する第2の搬送機構と、を備えたことを特徴とする塗布、現像装置。
IPC (2件)：
H01L 21/027 ,  H01L 21/677
FI (3件)：
H01L21/30 562 ,  H01L21/68 A ,  H01L21/30 502J
Fターム (35件)：
5F031CA02 ,  5F031DA08 ,  5F031DA17 ,  5F031FA01 ,  5F031FA07 ,  5F031FA11 ,  5F031FA12 ,  5F031FA15 ,  5F031GA04 ,  5F031GA35 ,  5F031GA42 ,  5F031GA47 ,  5F031GA48 ,  5F031GA49 ,  5F031HA13 ,  5F031HA33 ,  5F031HA48 ,  5F031HA59 ,  5F031MA02 ,  5F031MA03 ,  5F031MA23 ,  5F031MA24 ,  5F031MA26 ,  5F031MA30 ,  5F031NA01 ,  5F031NA02 ,  5F031NA09 ,  5F031NA16 ,  5F031PA06 ,  5F031PA23 ,  5F031PA24 ,  5F046CD01 ,  5F046CD05 ,  5F046JA27 ,  5F046LA19
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (19件)
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