特許
J-GLOBAL ID：200903030352572308
積層体の製造方法
発明者：
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
杉村 暁秀 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-158160
公開番号（公開出願番号）：特開平8-003714
出願日： 1994年06月17日
公開日（公表日）： 1996年01月09日
要約：
【要約】【目的】インターコネクター等の緻密質焼結体上に溶射膜を形成するのに際して、緻密質焼結体と溶射膜との密着性を向上させることによって、両者の剥離を防止し、更には両者の間の気密性を向上させることである。【構成】相対密度94%以上の緻密質焼結体1上に、開口部分が小さくかつ内部が広がった形状の開気孔を表面側に有する多孔質膜5を形成し、次いで多孔質膜5上に、溶射法によって溶射膜8を形成する。好ましくは、多孔質膜の原料粉末と分散媒体と造孔剤とを含有するペーストを緻密質焼結体1上に塗布して塗布層を形成し、この塗布層を焼き付けることにより、多孔質膜5を形成する。また、溶射膜8を形成した後、溶射膜8を熱処理することにより、溶射膜8を気密性にする。
請求項（抜粋）：
相対密度94%以上の緻密質焼結体上に、開口部分が小さくかつ内部が広がった形状の開気孔を表面側に有する多孔質膜を形成し、次いでこの多孔質膜上に溶射法によって溶射膜を形成することを特徴とする、積層体の製造方法。
IPC (4件)：
C23C 4/00
, B32B 3/00
, H01M 8/02
, H01M 8/12
