露光装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：大森聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-166728
公開番号（公開出願番号）：特開平9-017717
出願日： 1995年07月03日
公開日（公表日）： 1997年01月17日
要約：

【要約】【課題】ウエハの表面の本来合焦の制御対象とされない領域で且つ凹凸が存在する領域を通過した後等に、合焦を開始する際の引き込み時間を短縮する。【解決手段】レチクル7及びウエハ12を投影光学系11に対して同期して走査し、ウエハ12が保持されるZチルトステージ14の傾斜角及び高さをアクチュエータ16A〜16Cを介して制御して合焦を行いつつ、走査露光方式で露光を行う。ウエハ12の表面の傾斜角及び焦点位置を多点AFセンサ25で計測し、Zチルトステージ14の底面の傾斜角及び高さを、アクチュエータ16A〜16Cに設けられたエンコーダの計測値を処理して求める。多点AFセンサ25の検出結果を使用しない領域では、Zチルトステージ14の傾斜角及び高さから求められるウエハ12の仮想的な面に基づいて合焦制御を行う。

請求項（抜粋）：

マスク上のパターンを感光性の基板上に投影する投影光学系と、前記基板を前記投影光学系の像面側で移動する基板ステージとを有し、該基板ステージで位置決めされた前記基板上に前記マスクのパターンの像を投影する露光装置において、前記基板の前記投影光学系の光軸方向の焦点位置を検出する基板用焦点位置検出センサと、前記基板ステージの前記投影光学系の光軸方向の高さを検出するステージ用焦点位置検出センサと、前記基板用焦点位置検出センサにより検出された第1の焦点位置、及び前記ステージ用焦点位置検出センサにより検出された高さに基づいて定められる第2の焦点位置より、前記基板の表面状態に応じて1つの焦点位置を選択する焦点位置切り換え手段と、該焦点位置切り換え手段により選択された焦点位置に応じて前記基板の焦点位置を制御する焦点位置制御手段と、を備えたことを特徴とする露光装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521 , G03F 9/00

FI (3件)：

H01L 21/30 526 B , G03F 7/20 521 , G03F 9/00 H

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