特許
J-GLOBAL ID:200903030371800818

特定の特性を有する新規な細胞培養担体、およびその製造

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 津国 肇 (外1名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-533886
公開番号(公開出願番号):特表2003-513132
出願日: 2000年10月27日
公開日(公表日): 2003年04月08日
要約:
【要約】本発明は、足場依存性細胞培養(CAD)のための特定の機能的特徴性を示す、二次元微小担体ビーズ(2D-MS)を連続的に得る方法であって、特定の重合体顆粒から重合体薄膜のロールを連続的に製造し;該重合体薄膜を、反応性に富む基を生成するいかなる手段をも用いて活性化し;活性化された重合体薄膜と問題の重合体、共重合体および高分子との間で共有結合によってグラフトし;必要ならば、洗浄して、消費されず、薄膜に固着しなかった単量体を除去した後、グラフト済み薄膜を乾燥し;最後に、穿孔の大きさが、二次元微小担体ビーズに望ましい寸法のそれに応じて選ばれる、連続穿孔によって切断することで構成される一連の工程を含む方法に関する。
請求項(抜粋):
足場依存性細胞培養(ADC)のための特定が特性を与えられた二次元(2D)担体を連続的に製造する方法であって、少なくとも下記の工程:・35μm以下の厚さ、および0.9〜1.25g/cm3の範囲の密度を有する重合体薄膜のロールを、所定の重合体の顆粒から連続的に製造する工程;・反応性の基、特にラジカルおよび/または過酸化物、ヒドロペルオキシドもしくはアミン官能基を生成するためのいかなる手段を用いて、該重合体薄膜を活性化する工程;・活性化された重合体薄膜と、望ましい特性の、問題の重合体、共重合体または高分子との間に、共有結合によるグラフトを製造する工程(該グラフティングは、単量体の溶液中への薄膜の浸漬によって達成し、共重合は、β照射下での活性化により生成される遊離基によって開始し、浸漬時間は、薄膜にグラフトされる重合体の望みの厚さに直接相関されている);・必要ならば、洗浄し、消費されず、かつ薄膜に固着しなかった単量体を除去し、次いでグラフト済みの薄膜を乾燥する工程;・グラフト済みの重合体薄膜を、連続穿孔によって切断する工程(穿孔の寸法は、2D担体の望みの寸法の関数として選ばれる);を逐次的に含む方法。
IPC (5件):
C08F291/00 ,  C08J 7/00 302 ,  C08J 7/00 CEY ,  C12N 11/08 ,  C08L 33:26
FI (5件):
C08F291/00 ,  C08J 7/00 302 ,  C08J 7/00 CEY ,  C12N 11/08 C ,  C08L 33:26
Fターム (16件):
4B033NA16 ,  4B033NB36 ,  4B033NC01 ,  4B033ND07 ,  4F073AA01 ,  4F073BA18 ,  4F073BA19 ,  4F073BA27 ,  4F073CA01 ,  4F073CA21 ,  4F073CA45 ,  4J026AA12 ,  4J026AA17 ,  4J026AB08 ,  4J026AB17 ,  4J026BA32

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