特許
J-GLOBAL ID：200903030408437646

ハーフトーン型位相シフトマスクブランク及びハーフトーン型位相シフトマスク

発明者：
塩田 勇樹

塩田 勇樹 について

, 
三ッ井 英明

三ッ井 英明 について


出願人/特許権者：
HOYA株式会社

HOYA株式会社 について


代理人 (1件)： 藤村 康夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-047050
公開番号（公開出願番号）：特開2003-248291
出願日： 2002年02月22日
公開日（公表日）： 2003年09月05日
要約：
【要約】【課題】 多層型のハーフトーン位相シフトマスクにおいて多層膜の検査光に対する反射率を高くすることによって、検査光に対する透過率を低減したハーフトーン型位相シフトマスクブランク等を提供する。【解決手段】 透明基板上に、露光光に対して所定の透過率を有しかつ透明基板に対し所定の位相差を有する位相シフター膜を少なくとも有するハーフトーン型位相シフトマスクブランクにおいて、前記位相シフター膜は、最も表面側に形成された上層とその下に形成された下層とを含む少なくとも2層以上の膜が積層された多層膜からなり、上層の膜の屈折率が下層の膜の屈折率よりも小さく、かつ前記位相シフター膜の検査光に対する表面反射率が極大又は極大付近となるように上層の膜厚が調整されていることを特徴とする。
請求項（抜粋）：
透明基板上に、露光光に対して所定の透過率を有しかつ透明基板に対し所定の位相差を有する位相シフター膜を少なくとも有するハーフトーン型位相シフトマスクブランクにおいて、前記位相シフター膜は、最も表面側に形成された上層とその下に形成された下層とを含む少なくとも2層以上の膜が積層された多層膜からなり、前記ハーフトーン型位相シフトマスクブランクを用いて製造したハーフトーン型位相シフトマスクの検査に用いられる検査光の波長に対する上層の膜の屈折率が下層の膜の屈折率よりも小さく、かつ前記位相シフター膜の前記検査光に対する表面反射率が極大又は極大付近となるように上層の膜厚が調整されていることを特徴とするハーフトーン型位相シフトマスクブランク。
IPC (2件)：
G03F 1/08 ,  H01L 21/027
FI (5件)：
G03F 1/08 A ,  G03F 1/08 C ,  G03F 1/08 G ,  G03F 1/08 S ,  H01L 21/30 502 P
Fターム (5件)：
2H095BB03 ,  2H095BB08 ,  2H095BB35 ,  2H095BC04 ,  2H095BD02
引用特許：
審査官引用 (4件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM