レジスト組成物及びレジストパターン形成方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：石田敬 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-202343
公開番号（公開出願番号）：特開平9-050126
出願日： 1995年08月08日
公開日（公表日）： 1997年02月18日
要約：

【要約】【課題】水を現像液として所望パターンの現像が可能な新しいタイプのレジスト組成物を提供し、併せてこの新しいレジスト組成物を用いてレジストパターンを形成する方法を提供する。【解決手段】このレジスト組成物は、主剤樹脂と光酸発生剤とを含み、主剤樹脂を構成している重合体が水酸基を保護された繰り返し単位を含んでいることを特徴とする。この繰り返し単位は、水酸基を保護されたグルコフラノースに由来する置換基を持つ単位でよく、あるいは水酸基を保護されたビニルアルコールに由来する単位でよい。

請求項（抜粋）：

主剤樹脂と光酸発生剤とを含み、主剤樹脂を構成している重合体が水酸基を保護された繰り返し単位を含んでいることを特徴とするレジスト組成物。

IPC (2件)：

G03F 7/039 501 , G03F 7/004 503

FI (2件)：

G03F 7/039 501 , G03F 7/004 503

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