特許

J-GLOBAL ID：200903030453289259

電子ビーム露光方法及びそれを用いたデバイス製造方法

発明者： 村木 真人 ,  後藤 進
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 丸島 儀一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-150986
公開番号（公開出願番号）：特開平9-330867
出願日： 1996年06月12日
公開日（公表日）： 1997年12月22日
要約：

【要約】【課題】 マルチビーム型電子ビーム露光装置において、複数のビーム基準位置が定めるビーム座標系と偏向器が定める偏向座標系とを高精度に一致させるとともに座標間のずれの経時変化を短時間で補正して露光する。【解決手段】 複数のビーム基準位置が定めるビーム座標系と設計上の座標系の関係を表す第1のパラメータと、偏向器が定める偏向座標系と設計上の座標系の関係を表す第2のパラメータに基づいて、ビーム照射手段もしくはビーム偏向手段を調整する調整段階を有する。

請求項（抜粋）：

複数の電子ビームを設計上の座標系に基づいて基板面上に配列させて照射する照射手段と、前記設計上の座標系に基づいて前記基板面上の前記複数の電子ビームを略同一の変位量だけ偏向させるビーム偏向手段とを有して前記基板を走査露光する電子ビーム露光方法において、前記複数の電子ビームの前記基板面上の位置の実測値と設計上の座標値に基づいて、前記複数の電子ビームの実際のビーム座標系と前記設計上の座標系との関係を表す第1のパラメータを決定する第1のパラメータ決定段階と、前記ビーム偏向手段によって各電子ビームを偏向した際の前記基板面上の変位位置の実測値と設計上の座標値に基づいて前記ビーム偏向手段の実際の偏向座標系と前記設計上の座標系との関係を表す第2のパラメータを決定する第2のパラメータ決定段階と、前記第1、第2のパラメータに基づいて、前記照射手段もしくは前記ビーム偏向手段を調整する調整段階とを有することを特徴とする電子ビーム露光方法。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 504 ,  H01J 37/305

FI (3件)：

H01L 21/30 541 W ,  G03F 7/20 504 ,  H01J 37/305 B

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 特開平2-278813
  
• 特開平1-110732
  
• 特開平1-286421