特許
J-GLOBAL ID：200903030463013936
電子線描画装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
中村 純之助
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-261058
公開番号（公開出願番号）：特開平6-196394
出願日： 1992年09月30日
公開日（公表日）： 1994年07月15日
要約：
【要約】【目的】 連続移動する試料上に図形を描画する電子線描画装置において、試料台の移動に電子ビームを高速、高精度に追従させ、装置全体のスループット向上を図る。【構成】 連続移動する試料台15と、主、副2段の電子ビーム偏向器13、14を有する電子線描画装置で、主偏向器13によりサブフィールド原点に電子ビームを設定し、副偏向器14により上記サブフィールド内に図形描画するが、試料台の移動量をレーザ測長器4により計測して追従偏向量を求めて副偏向器14に加え、該追従量が予め設定された偏向しきい値を越える場合には、主偏向器13によりサブフィールド原点位置を再設定して追従描画をする。
請求項（抜粋）：
試料を連続移動させる試料台と、電子ビームを予め設定されたサブフィールド原点に位置決めする主偏向手段と、上記サブフィールド内に図形を描画する副偏向手段とを有し、連続移動する上記試料上に図形を追従描画する電子線描画装置において、上記電子ビームを上記サブフィールド原点に位置決めした時点からの上記試料台の移動量を連続計測して上記電子ビームの追従偏向量となし、該追従偏向量を図形描画偏向量に加えて上記副偏向手段に入力して追従描画を行うが、上記試料上の描画領域が電子ビームの偏向範囲から逸脱することを未然に検知するチェック手段を有し、該チェック手段により逸脱の可能性があると判断された場合には、上記副偏向手段による描画を一時中断し、上記サブフィールド原点の位置を上記主偏向手段により再設定して描画を再開することを特徴とする電子線描画装置。
FI (2件)：
H01L 21/30 341 D
, H01L 21/30 341 V
