基板搬送機構および基板処理装置

発明者： , , , , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：宮本治彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-175089
公開番号（公開出願番号）：特開2003-007794
出願日： 1996年08月05日
公開日（公表日）： 2003年01月10日
要約：

【要約】【課題】専有面積の小さい基板処理装置を提供する。【解決手段】ウェーハ搬送室50のウェーハ搬送室壁53に複数の反応室70を積み重ねて設け、ウェーハ搬送室50のウェーハ搬送室壁54にウェーハ受け渡し室30を設ける。ウェーハ受け渡し室50内には石英製のウェーハ保持具40を設ける。ウェーハ搬送室50、複数の反応室70およびウェーハ受け渡し室30をそれぞれ独立して減圧可能とする。ウェーハ搬送室50の内部にウェーハ搬送真空ロボット60を設ける。半導体ウェハ処理装置1全体を筺体900に収容し、筺体900の内部にはカセット10を載置するカセット棚11を設ける。ウェーハ受け渡し室30とカセット棚11との間にカセット搬送兼ウェーハ搬送機20を設ける。

請求項（抜粋）：

カセットを保持するカセット保持手段と、基板を保持する基板保持手段と、前記カセット保持手段によって保持された前記カセットから前記基板保持手段に前記基板を搬送するか、前記基板保持手段から前記カセット保持手段によって保持された前記カセットに前記基板を搬送するか、前記カセット保持手段によって保持された前記カセットから前記基板保持手段におよび前記基板保持手段から前記カセット保持手段によって保持された前記カセットに前記基板を搬送する基板搬送手段と、前記カセット保持手段にカセットを搬送し、前記カセット保持手段から前記カセットを搬出するカセット搬送手段とを備え、前記基板搬送手段と前記カセット搬送手段とが、同じ昇降手段に搭載されていることを特徴とする基板搬送機構。

Fターム (30件)：

5F031CA02 , 5F031CA11 , 5F031DA01 , 5F031DA17 , 5F031FA01 , 5F031FA03 , 5F031FA07 , 5F031FA09 , 5F031FA11 , 5F031FA12 , 5F031FA15 , 5F031FA25 , 5F031GA03 , 5F031GA40 , 5F031GA43 , 5F031GA47 , 5F031GA49 , 5F031LA12 , 5F031LA14 , 5F031MA02 , 5F031MA03 , 5F031MA04 , 5F031MA13 , 5F031NA02 , 5F031NA04 , 5F031NA05 , 5F031NA07 , 5F031NA18 , 5F031PA06 , 5F031PA26

引用特許：

審査官引用 (2件)

半導体ウエハ搬送装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-267890 出願人：三菱電機株式会社
特開昭63-275475

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