特許

J-GLOBAL ID：200903030506677647

ドライエッチング装置

発明者： 田村 智行 ,  縄田 誠
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-332183
公開番号（公開出願番号）：特開平9-171992
出願日： 1995年12月20日
公開日（公表日）： 1997年06月30日
要約：

【要約】【課題】従来、ロット間クリーニングの開始時期やクリーニング条件は異物の発生状況から経験的に定めることが多いため、不必要に実施回数が多かったり時間が長いなどの課題があった。【解決手段】エッチング装置において、センサをエッチング処理室に設置し、該ドライエッチング装置を用いて複数枚の被処理基板をエッチングした際に該センサに堆積した反応生成物の堆積量に基づいてクリーニングの開始時期を判定し、該反応生成物の堆積量変化を該エッチング装置のプラズマクリーニング中に測定し、その堆積量変化が小さくなる時点に基づいてクリーニングの終点を判定する。

請求項（抜粋）：

ドライエッチング装置において、エッチング処理中に発生する反応生成物が堆積する部位にセンサを設置し、該センサ上の堆積物の量をモニタすることによりクリーニング開始時期及び終点を判定することを特徴とするドライエッチング装置。