特許
J-GLOBAL ID:200903030510686430
皮膜型インダクタとその製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
廣澤 勲
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-365012
公開番号(公開出願番号):特開2000-243630
出願日: 1999年12月22日
公開日(公表日): 2000年09月08日
要約:
【要約】【課題】 回路基板への実装効率がよい皮膜型インダクタとその製造方法を提供する。【解決手段】 セラミックスや少なくとも表面を絶縁性にした磁性材料等の絶縁性の基材12表面に導電体膜14を形成し、この基材12の両端に電極20,22を有し、電極20,22間の導電体膜14には一方の電極20から他方の電極22に至る螺旋状の溝16を備える。溝16の両側の導電体膜14はこの溝16で分断されコイル部18が形成され、コイル部18の一部に溝16で区画されこのコイル部18のインダクタンスを調整するトリミング部24を設ける。トリミング部24は、電極20に接してコイル部18の一端部に形成され、溝16の一端部とこの溝16に電極20の一方から延びた区画用の溝26とによって挟まれる。
請求項(抜粋):
絶縁性の基材の表面に導電体膜を形成し、この基材の両端に電極を有し、上記電極間の導電体膜には上記一方の電極から他方の電極に至る螺旋状の溝を形成し、この溝の両側の上記導電体膜をこの溝で分断してコイル部を形成し、このコイル部の一部に上記溝で区画されインダクタンスを調整するトリミング部を設けた皮膜型インダクタ。
IPC (3件):
H01F 17/00
, H01F 27/29
, H01F 41/04
FI (3件):
H01F 17/00 G
, H01F 41/04 C
, H01F 15/10 B
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