特許
J-GLOBAL ID:200903030511742317

ウエハ熱処理装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 船橋 國則
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-112966
公開番号(公開出願番号):特開平11-307466
出願日: 1998年04月23日
公開日(公表日): 1999年11月05日
要約:
【要約】【課題】 ダミーウエハによる処理時間の増加を招くことなく、規定枚数のウエハを安定した温度で熱処理できるウエハ熱処理装置を提供する。【解決手段】 チャンバー1と、このチャンバー1内に設置された石英管2と、この石英管2の外側に配置されたハロゲンランプ3とを有し、石英管2内に搬入されたウエハ10をハロゲンランプ3で加熱処理するウエハ熱処理装置において、チャンバー1にコイルヒータ12を埋め込み、このコイルヒータ12で石英管2を恒温加熱する構成を採用した。
請求項(抜粋):
チャンバーと、このチャンバー内に設置された透光管と、この透光管の外側に配置された赤外線ランプとを有し、前記透光管内に搬入されたウエハを前記赤外線ランプで加熱処理するウエハ熱処理装置において、前記透光管を恒温加熱する加熱手段を備えたことを特徴とするウエハ熱処理装置。
IPC (2件):
H01L 21/26 ,  H01L 21/324
FI (2件):
H01L 21/26 G ,  H01L 21/324 K

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