特許

J-GLOBAL ID：200903030529860031

光パルスを生成する方法及び装置

発明者： ジャン・デュボー ,  ルミ・ボワティン
出願人/特許権者： フランス・テレコム・エタブリスマン・オウトノム・デ・ドロワ・パブリック
代理人 (1件)： 萩野 平 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-023481
公開番号（公開出願番号）：特開平7-007209
出願日： 1994年01月26日
公開日（公表日）： 1995年01月10日
要約：

【要約】 (修正有)【構成】光信号を光パルスの形で生成するために、半導体レーザ2を制御手段4によりゲイン整流で機能させ、前記半導体レーザ2により生成された光の大部分を該レーザ内に再注入し、再注入する光を先ず前記レーザのモードの一つに同調させた光フィルタ12により濾波し、前記レーザ2により生成された光の一部を、前記光フィルタ12によるこの部分の濾波後、光信号として使用する。【効果】光スペクトル幅が検出パルスのフーリエ変換に対応する理論極限値に近い、モード同期技術の利点特にパルスのスペクトル特性(選択ミラーにより「チャープ」が僅か)を、ゲイン整流技術の利点(光パルス生成装置の簡便性と堅牢性)に結び付けた、光パルスを生成することができる。

請求項（抜粋）：

半導体レーザを、ゲイン整流で機能させ、前記半導体レーザにより生成された光の大部分を、該レーザ内に再注入し、再注入する光を、先ず、前記レーザのモードの一つに同調させた光フィルタにより濾波し、前記レーザにより生成された光の一部を、前記光フィルタによるこの部分の濾波後、光信号として使用する、各工程を備えたことを特徴とする光信号を光パルスとして生成する方法。

IPC (4件)：

H01S 3/103 ,  G01C 19/72 ,  G02F 2/00 ,  H01S 3/083