特許
J-GLOBAL ID:200903030546686983
密着性に優れた溶射皮膜を形成する溶射方法
発明者:
,
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出願人/特許権者:
代理人 (3件):
飯田 敏三
, 柏木 悠三
, 佐々木 渉
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-174730
公開番号(公開出願番号):特開2005-350748
出願日: 2004年06月11日
公開日(公表日): 2005年12月22日
要約:
【課題】溶射前に基材表面を特定の処理手段を組み合わせた粗面化と清浄化により、基材と得られる溶射皮膜との密着性を改善する溶射方法を提供する。【構成】金属基材表面をブラスト処理し、次いで表面酸化処理を施し、次いで真空アーククリーニング処理を行った後、溶射処理をする金属基材表面に密着性に優れた溶射皮膜を形成する溶射方法。【選択図】なし
請求項(抜粋):
金属基材表面をブラスト処理し、次いで表面酸化処理を施し、次いで真空アーククリーニング処理を行った後、溶射処理をする金属基材表面に密着性に優れた溶射皮膜を形成する溶射方法。
IPC (3件):
C23C4/02
, C23C4/04
, C23C4/12
FI (3件):
C23C4/02
, C23C4/04
, C23C4/12
Fターム (6件):
4K031BA01
, 4K031BA04
, 4K031CB11
, 4K031CB14
, 4K031DA03
, 4K031EA10
引用特許:
出願人引用 (2件)
-
特許第3425496号公報
-
被溶射材料の前処理方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-259046
出願人:新日本製鐵株式会社
審査官引用 (10件)
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