特許
J-GLOBAL ID：200903030549134400
蒸着膜の形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
光来出 良彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-195370
公開番号（公開出願番号）：特開平7-034220
出願日： 1993年07月13日
公開日（公表日）： 1995年02月03日
要約：
【要約】【目的】 蒸着により金属又は金属酸化物等の無機質材料の蒸着膜を樹脂基材上又は樹脂層上に形成する方法において、密着性が十分である無機質材料の蒸着膜の形成方法を提供する。【構成】 基材に、電離放射線硬化型樹脂を含む樹脂組成物を塗工して中間樹脂塗膜を形成し、前記塗膜を半硬化状態とし、前記半硬化状態の中間樹脂塗膜上に、無機質材料を蒸着して蒸着膜を形成し、次いで電離放射線を照射して前記半硬化塗膜を完全硬化させる。得られた蒸着膜は、密着性が十分であり、蒸着膜の剥離が防止される。
請求項（抜粋）：
(1)基材上に電離放射線硬化型樹脂を含む樹脂組成物を塗工して中間樹脂塗膜を形成し、(2)前記中間樹脂塗膜を半硬化状態とし、(3)前記半硬化状態の中間樹脂塗膜上に、無機質材料を蒸着して蒸着膜を形成し、(4)電離放射線を照射して前記半硬化塗膜を完全硬化させることを特徴とする蒸着膜の形成方法。
引用特許：
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