特許
J-GLOBAL ID:200903030554667670

位置合わせ方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 大森 聡
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-225018
公開番号(公開出願番号):特開平9-069485
出願日: 1995年09月01日
公開日(公表日): 1997年03月11日
要約:
【要約】【課題】 アライメント計測時にフォーカスオフセットを生じさせず、アライメント精度を向上させる。【解決手段】 ウエハのショット領域全体に亘り複数のスポット光9a〜9mを照射して照射位置の高さを検出する多点の焦点位置検出系を設ける。ファインアライメントセンサからウエハマーク4a,4bの位置を検出するためのアライメント照明光1a,1bが照射されるショット領域上の照射位置にそれぞれスポット光9k,9hが重なるように設定する。スポット光9k,9hの照射位置におけ測定値が、他の測定点における測定値からの許容範囲を越えているサンプルショット領域(異常ショット)については、アライメントデータから除外し、その異常ショットに隣合う8個のショット領域から代替ショットを選択してEGA方式によりウエハの各ショット領域の座標位置を算出する。
請求項(抜粋):
マスクパターンが転写される基板上の全部のショット領域から所定個数の計測ショット領域を選択し、該所定個数の計測ショット領域に付設された位置合わせ用マークの位置をそれぞれ測定し、該測定結果を統計処理して前記基板上の配列座標を求め、該配列座標に基づいて前記マスクパターンと前記基板上の各ショット領域との位置合わせを行う位置合わせ方法において、複数の計測光を前記基板上の複数の計測点にそれぞれ照射して、前記複数の計測点での前記基板の高さをそれぞれ検出し、前記複数の計測点の内少なくとも1つを当該計測ショット領域に付設された位置合わせ用マーク上に設定し、当該計測ショット領域の位置合わせ用マーク上に設定された計測点での高さ検出結果と他の計測点での高さ検出結果とを比較し、その差が所定の許容範囲を越える場合には、当該計測ショット領域を前記統計処理の対象から除外することを特徴とする位置合わせ方法。
IPC (3件):
H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00
FI (3件):
H01L 21/30 525 D ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00 H

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