特許
J-GLOBAL ID：200903030564105378
気液二相流でのマイクロチップ内濃縮方法とそのためのマイクロチップデバイス
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
西澤 利夫
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2003002337
公開番号（公開出願番号）：WO2003-076038
出願日： 2003年02月28日
公開日（公表日）： 2003年09月18日
要約：
基板に流路を形成したマイクロチップにおいて、流路内に気液二相流による界面を形成して液相の濃縮を行い、体積変化を伴う濃縮法をマイクロチップに集積化して高効率での濃縮を可能とする。
請求項（抜粋）：
基板に流路を形成したマイクロチップにおいて、流路内に気液二相流による界面を形成して液相の濃縮を行うことを特徴とする気液二相流でのマイクロチップ内濃縮方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
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