特許
J-GLOBAL ID:200903030569566322

液晶表示装置用基板の製造方法、液晶表示装置の製造方法及び液晶表示装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 合田 潔 (外5名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-249719
公開番号(公開出願番号):特開平8-122792
出願日: 1994年10月14日
公開日(公表日): 1996年05月17日
要約:
【要約】【目的】 単純な工程で良好な視覚特性の液晶表示装置を得る。【構成】 カラーフィルタ基板及びTFT基板に略均一に塗布されたポリイミドによる配向膜を形成する(S1)。各々の基板にラビング処理を施す(S2)。ラビング処理された各々の基板に、ラビング処理されたときのラビング方向に沿う方向に偏光された直線偏光の紫外線を照射する(S3)。これにより、直線偏光に沿う方向のポリイミドの側鎖が切断され、液晶のプレティルト角のみに関与するポリイミドの側鎖を切断でき、液晶のプレティルト角を変化させることができる。各々の基板を所定のセルギャップを設けて対向配置し、周囲を封止して液晶を両基板間に注入し(S4、S5)、外表面に偏光板を貼り付け液晶表示装置10を完成させる(S6)。
請求項(抜粋):
少なくとも一方が透明の一対の基板が所定間隔を隔てると共に対向して配置された基板間に液晶が封入された液晶表示装置の当該基板の少なくとも一方を形成する液晶表示装置用基板の製造方法であって、高分子材料を前記基板に塗布して高分子膜を形成する工程と、前記高分子膜が形成された基板に配向方向を付与するためのラビング処理をして高分子配向膜を形成する工程と、前記ラビングされた基板の少なくとも一部へ直線偏光された電磁波を照射する工程と、を含むことを特徴とする液晶表示装置用基板の製造方法。
引用特許:
審査官引用 (2件)
  • 液晶表示装置及びその製造方法
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平5-212722   出願人:富士通株式会社
  • 液晶ディスプレーセル
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平4-198709   出願人:エフ・ホフマン-ラロシユアーゲー, ニオピックモスクワリサーチアンドプロダクションアソシエーション

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