特許
J-GLOBAL ID：200903030569911429
イオン発生装置、電気機器およびイオン発生方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
河野 登夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-352083
公開番号（公開出願番号）：特開2003-151719
出願日： 2001年11月16日
公開日（公表日）： 2003年05月23日
要約：
【要約】【課題】 十分なイオン濃度を確保すると共にオゾン濃度を抑制することができるイオン発生装置、電気機器およびイオン発生方法を提供する。【解決手段】 イオンを発生するイオン発生電極としての沿面放電電極501が、絶縁体であるセラミック製の誘電体502の上に形成され、気流405の通路となるプラスチック製の通風路503の底面側に配置される。気流405は、図示しない送風ファンにより流速Fで送風されている。電圧印加時間Tiと休止時間Tsの和を周期とするパルス波をイオン発生電極に印加し、休止時間Tsと気流の流速Fとの積をイオン発生時に生じるプラズマ領域の直径より大きくするものとする。
請求項（抜粋）：
プラズマ領域を形成してイオンを発生するイオン発生電極と、該イオン発生電極が配置され発生したイオンを導出する通風路とを備えたイオン発生装置において、前記イオン発生電極にイオンを発生する電圧印加時間とイオンを発生しない休止時間とにより周期を構成するパルス波を印加するパルス波印加手段と、前記通風路に気流を発生させる送風手段とを備え、前記休止時間と気流の流速との積を前記プラズマ領域の直径より大きくする構成としたことを特徴とするイオン発生装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
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