特許
J-GLOBAL ID:200903030580290681
高分子電解質膜
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (6件):
社本 一夫
, 増井 忠弐
, 小林 泰
, 千葉 昭男
, 富田 博行
, 狩野 剛志
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-063194
公開番号(公開出願番号):特開2004-273298
出願日: 2003年03月10日
公開日(公表日): 2004年09月30日
要約:
【課題】優れた強度特性と高いイオン交換能を有する電解質膜材料を提供する。【解決手段】放射線グラフト法によってスルホン酸基が導入された架橋ポリテトラフルオロエチレン多孔質体にパーフルオロスルホン酸系イオン交換材料、パーフルオロカルボン酸系イオン交換材料、または炭化水素系イオン交換材料が含浸されていて、複合型イオン交換膜として一体に成形されていることを特徴とする高分子電解質膜が提供される。【選択図】 無し
請求項(抜粋):
放射線グラフト法によってスルホン酸基が導入された架橋ポリテトラフルオロエチレン多孔質膜にパーフルオロスルホン酸系イオン交換材料、パーフルオロカルボン酸系イオン交換材料、および炭化水素系イオン交換材料から選択されるいずれかのイオン交換材料が含浸されていて、複合型イオン交換膜として一体に成形されていることを特徴とする高分子電解質膜。
IPC (2件):
FI (2件):
Fターム (13件):
4F074AA39
, 4F074CD11
, 4F074CD17
, 4F074CE48
, 4F074CE73
, 4F074DA49
, 5G301CA30
, 5G301CD01
, 5H026AA06
, 5H026BB03
, 5H026CX05
, 5H026EE19
, 5H026HH04
引用特許:
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