特許
J-GLOBAL ID：200903030595530425

ポジ型レジスト組成物及び該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法

発明者：
和田 健二

和田 健二 について


出願人/特許権者：
富士フイルム株式会社

富士フイルム株式会社 について


代理人 (2件)： 高松 猛 ,  矢澤 清純
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-178474
公開番号（公開出願番号）：特開2008-209889
出願日： 2007年07月06日
公開日（公表日）： 2008年09月11日
要約：
【課題】通常露光(ドライ露光)のみならず液浸露光においても、パターン倒れ、パターン形状が良好であり、且つ、二重露光において、パターン解像性、パターン形状が良好である、ポジ型レジスト組成物及び該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、(B)酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂及び(C)酸の作用により分解し、酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物及び該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、 (B)酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂及び (C)酸の作用により分解し、酸を発生する化合物 を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
IPC (4件)：
G03F 7/039 ,  G03F 7/11 ,  G03F 7/38 ,  H01L 21/027
FI (4件)：
G03F7/039 601 ,  G03F7/11 501 ,  G03F7/38 511 ,  H01L21/30 502R
Fターム (27件)：
2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB03 ,  2H025AB14 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BF02 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB16 ,  2H025CC04 ,  2H025CC20 ,  2H025DA03 ,  2H025DA34 ,  2H025FA17 ,  2H096AA25 ,  2H096AA27 ,  2H096AA28 ,  2H096BA11 ,  2H096CA06 ,  2H096EA05 ,  2H096EA12 ,  2H096GA09
引用特許：
出願人引用 (11件)
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審査官引用 (10件)
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