特許

J-GLOBAL ID：200903030595859796

酢酸エチルの製造方法

発明者： 井上 薫 ,  岩崎 正雄 ,  松井 和明
出願人/特許権者： 三井東圧化学株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-329700
公開番号（公開出願番号）：特開平5-255185
出願日： 1992年12月09日
公開日（公表日）： 1993年10月05日
要約：

【要約】【目的】 工業的に有用な酢酸エチルを気相で不均一固体触媒を使用して、効率よく、且つ安定的に製造する極めて有効な製造方法を提供する。【構成】 触媒としてリンタングステン酸の有するプロトンの一部をセシウム金属カチオンと更に周期律表においてセシウム以外の1族金属カチオン、6族金属カチオン、8族金属カチオン、9族金属カチオン、10族金属カチオン、11族金属カチオンおよび14族金属カチオンよりなる群から選ばれた少なくとも1種の金属カチオンで交換されたリンタングステン酸の金属塩固体触媒を用いて、エチレンと酢酸を気相で反応させて酢酸エチルを製造する方法である。更に反応系内に水を存在させる事でよりよい触媒活性を示す。

請求項（抜粋）：

リンタングステン酸の有するプロトンの一部をセシウム金属カチオンと更に周期律表においてセシウム以外の1族金属カチオン、6族金属カチオン、8族金属カチオン、9族金属カチオン、10族金属カチオン、11族金属カチオンおよび14族金属カチオンよりなる群から選ばれた少なくとも1種の金属カチオンで交換した触媒の存在下に、エチレンと酢酸を気相で反応させる事を特徴とする酢酸エチルの製造方法。

IPC (4件)：

C07C 69/14 ,  B01J 27/188 ,  C07C 67/04 ,  C07B 61/00 300