特許
J-GLOBAL ID：200903030608513258
光ディスク製造用ディスクマスターの製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
中島 淳 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-201857
公開番号（公開出願番号）：特開平11-045462
出願日： 1997年07月28日
公開日（公表日）： 1999年02月16日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】 ランド/グルーブ構造のディスクマスターを大量生産する。【解決手段】 反射率の高い膜を表面とする円板上に、高さの高い帯状領域のランド部と高さの低い帯状領域のグルーブ部を有するランド/グルーブ型再生専用光ディスクを製造するためのディスクマスターの製造方法で、ピット列の深さに相当する厚さのフォトレジスト膜を形成し、ランド部に対してはレジスト膜を感光させるに適する光量でピット列に対応する領域を選択的に露光し、グルーブ部に対してはグルーブ部の深さに対応する厚さのフォトレジスト膜で感光させるに適する光量をグルーブ部全面に与え、ピット列に対応する領域に対しては上記の光量に加えてピット列の深さに対応する厚さのレジスト膜を感光させるに適する光量を重畳した照射光を照射して、レジスト膜を露光し、この露光されたフォトレジスト膜を現像してエッチングマスクを形成する。
請求項（抜粋）：
反射率の高い膜を表面とする円板上に、高さの高い帯状領域よりなるランド部と高さの低い帯状領域よりなるグルーブ部とが、相互に並行して渦巻き状または同心円状に形成されており、前記ランド部と前記グルーブ部とには、二進情報を化体して配列される反射率の低い領域の列よりなるピット列が形成されている、ランド/グルーブ型再生専用光ディスクを製造するための原型として使用されるディスクマスターを製造する方法において、円板上に、前記ピット列の深さに相当する厚さのフェトレジスト膜を形成し、前記ランド部に対しては、前記フォトレジスト膜を感光させるに適する光量をもって、前記ピット列に対応する領域を選択的に露光し、前記グルーブ部に対しては、該グルーブ部の深さに対応する厚さのフォトレジスト膜で感光させるに適する光量を前記グルーブ部全面に与え、前記ピット列に対応する領域に対しては上記の光量に加えて前記ピット列の深さに対応する厚さのフォトレジスト膜を感光させるに適する光量を重畳して与えることとなる照射光を照射して、前記フォトレジスト膜を露光し、該露光されたフォトレジスト膜を現像して、エッチングマスクを形成し、該エッチングマスクを使用して前記円板をエッチングする工程を有することを特徴とする光ディスク製造用ディスクマスターの製造方法。
IPC (3件)：
G11B 7/26 501
, G11B 7/24 561
, G11B 7/24 565
G11B 7/26 501
, G11B 7/24 561 P
, G11B 7/24 565 Z
