特許

J-GLOBAL ID：200903030620222951

水の浄化処理方法および装置

発明者： 藤田 由希子 ,  杉村 誠司
出願人/特許権者： 株式会社栗本鐵工所
代理人 (3件)： 鎌田 文二 ,  東尾 正博 ,  鳥居 和久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-093770
公開番号（公開出願番号）：特開2004-298717
出願日： 2003年03月31日
公開日（公表日）： 2004年10月28日
要約：

【課題】被処理水の特性に応じて浄化処理力を調整可能な水の浄化処理方法とし、特に処理装置の物理的な増減や変更をしなくともオゾンガス散気処理のみを強化したり、または紫外線照射処理のみを強化することのできる水の浄化処理方法または浄化処理装置とすることである。【解決手段】隔壁2で仕切った4区画の水の浄化処理区3、4、5、6を被処理水が順に通過するように連結して設け、上流側の3つの浄化処理区3、4、5にオゾン放出器を設けると共に、下流側の浄化処理区4、5、6に、紫外線光源7を設け、浄化処理区4、5からなる選択的浄化処理区には、紫外線光源7と共に、配管8、調節バルブ9および散気管10からなるオゾンガス放出器を併設し、これら紫外線光源7またはオゾン放出器のいずれか一方を機能させるように酸化処理機能切替手段を設けた水の浄化処理装置とする。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

被処理水にオゾンガスを接触させる曝気工程と紫外線を照射する紫外線照射工程とをこの順に行なう水の浄化処理方法において、曝気工程から紫外線照射工程に移る中間工程として、曝気工程または紫外線照射工程を選択していずれも行なえる選択的処理工程を設け、紫外線またはオゾンによる浄化処理力を調整可能な水の浄化処理方法。

IPC (3件)：

C02F1/78 ,  C02F1/32 ,  C02F1/72

FI (3件)：

C02F1/78 ,  C02F1/32 ,  C02F1/72 101

Fターム (22件)：

4D037AA01 ,  4D037AA05 ,  4D037AA11 ,  4D037AB01 ,  4D037AB02 ,  4D037AB04 ,  4D037AB05 ,  4D037BA18 ,  4D037CA12 ,  4D050AA02 ,  4D050AA03 ,  4D050AA12 ,  4D050AB02 ,  4D050AB03 ,  4D050AB04 ,  4D050AB06 ,  4D050AB07 ,  4D050AB11 ,  4D050AB19 ,  4D050BB02 ,  4D050BC09 ,  4D050CA07