マイクロリソグラフィ照明方法およびその方法を実行するための投影レンズ

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：田辺徹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-139496
公開番号（公開出願番号）：特開2003-077827
出願日： 2002年05月15日
公開日（公表日）： 2003年03月14日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】半導体素子等の超小型電子素子の作成に使用される投影照明系は、ますます微細化するパターンにより、マスク投影像の空間解像度の改善が求められている。【解決手段】投影レンズの物体平面上に配置されたパターンを投影レンズの像平面上に結像するためのマイクロリソグラフィ照明方法であって、S偏向およびP偏向光の光路長を光学的に補正して、両偏向の光ビームが、物体平面および像平面間でほぼ同一の光路長を進むようにするか、像平面に対する入射角の影響をほぼ受けることなく光路長の既存差を維持して、微細構造のパターンの結像時のパターンの向きによるコントラスト変動を回避できるようにする特殊な手段をもつ。

請求項（抜粋）：

投影レンズの物体平面上に配置されたパターンを投影レンズの像平面上に結像するための方法であって、第1光線が第1偏向方向を有し、第2光線が第1偏向方向とは異なった第2偏向方向を有する光ビームを生じるために、前記パターンに光を照射する段階と、前記光ビームの前記光線が前記投影レンズの光学素子に異なった入射角で入射し、この時、用いる光学形状によって、前記第1光線が通る第1光路および前記第2光線が通る第2光路の長さの差が前記像平面の少なくとも1つの領域に発生するようにして、前記光ビームを前記投影レンズに通す段階と、前記第1光路および/または前記第2光路を意図的に変更することによって光路長の前記差を補償して、前記像平面上で生じる、前記第1光線が通る前記光路と前記第2光線が通るものとの長さの差がそれらの入射角の影響をほとんど受けないようにする段階とを含む方法。

IPC (5件)：

H01L 21/027 , G02B 13/24 , G02B 17/08 , G02B 19/00 , G02B 27/28

FI (5件)：

G02B 13/24 , G02B 17/08 Z , G02B 19/00 , G02B 27/28 Z , H01L 21/30 515 D

Fターム (18件)：

2H052AC14 , 2H052AC18 , 2H052BA02 , 2H052BA03 , 2H052BA06 , 2H052BA12 , 2H087KA21 , 2H087LA01 , 2H087NA01 , 2H087NA04 , 2H087TA01 , 2H087TA02 , 2H099AA17 , 2H099BA09 , 2H099CA05 , 5F046BA03 , 5F046CB02 , 5F046CB25

引用特許：

審査官引用 (1件)

投影光学系及びそれを用いた投影露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-068536 出願人：キヤノン株式会社

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