特許

J-GLOBAL ID：200903030629661729

電子ビーム露光装置及び電子ビーム露光方法

発明者： 加藤 和彦
出願人/特許権者： 株式会社アドバンテスト
代理人 (1件)： 龍華 明裕
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-380421
公開番号（公開出願番号）：特開2002-184668
出願日： 2000年12月14日
公開日（公表日）： 2002年06月28日
要約：

【要約】【課題】 ウェハに所望のパターンを露光するための磁気マスク部材を再使用する。【解決手段】 電子ビームによりウェハ150にパターンを露光する電子ビーム露光装置100を提供する。電子ビーム露光装置100は、電子ビームを発生する電子ビーム銃112a及び112bと、電子ビームの焦点位置を調整する電子レンズ116a及び116bと、複数の開口部が設けられた磁性体を有する磁気マスク部材120a及び120bと、磁気マスク部材磁気マスク部材120a及び120bにおいて電子ビームのビーム径を絞るように又は電子ビームの焦点位置をウェハ150に合わせるように電子レンズ116a及び116bを制御する電子レンズ制御部184とを備えることを特徴とする電子ビーム露光装置。

請求項（抜粋）：

電子ビームによりウェハにパターンを露光する電子ビーム露光装置であって、前記電子ビームを発生する電子ビーム発生部と、前記電子ビームの焦点位置を調整する電子レンズと、複数の開口部が設けられた磁性体を有する磁気マスク部材と、前記磁気マスク部材において前記電子ビームのビーム径を絞るように又は前記電子ビームの焦点位置を前記ウェハに合わせるように前記電子レンズを制御する電子レンズ制御部とを備えることを特徴とする電子ビーム露光装置。

IPC (6件)：

H01L 21/027 ,  G03F 1/16 ,  G03F 7/20 504 ,  G03F 7/207 ,  H01J 37/21 ,  H01J 37/305

FI (6件)：

G03F 1/16 B ,  G03F 7/20 504 ,  G03F 7/207 H ,  H01J 37/21 Z ,  H01J 37/305 B ,  H01L 21/30 541 F

Fターム (13件)：

2H095BA08 ,  2H095BC05 ,  2H097BA01 ,  2H097CA16 ,  2H097JA02 ,  2H097LA10 ,  5C033MM03 ,  5C034BB05 ,  5C034BB08 ,  5F056AA08 ,  5F056EA03 ,  5F056EA05 ,  5F056EA08