特許

J-GLOBAL ID：200903030633509532

固体レーザー装置

発明者： 久場 一樹 ,  久国 晶 ,  百衣 仁 ,  高田 清志
出願人/特許権者： 三菱電機株式会社
代理人 (1件)： 曾我 道照 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-328918
公開番号（公開出願番号）：特開2002-134815
出願日： 2000年10月27日
公開日（公表日）： 2002年05月10日
要約：

【要約】【課題】 固体レーザー媒質を冷却する冷却水の純度を向上させることにより、固体レーザー媒質の表面が汚れて焼き付くことを防止し、固体レーザー媒質の破損、恒久的な劣化、出力の低下、ビーム品質の低下等を防止して、変動のない安定した固体レーザーを得ること。【解決手段】 冷却水の純度が必要な固体レーザー媒質の冷却水回路を,励起ランプおよび集光器を冷却する発塵確率の高い冷却水回路から完全に分離独立させる。また、固体レーザー媒質の冷却水を、全て除塵フィルターを介して送水して除塵能力を強化する。

請求項（抜粋）：

筐体内に固体レーザー媒質と、この固体レーザー媒質を励起する励起ランプと、この励起ランプからの励起光を前記固体レーザー媒質に集光照射する集光器と、これら固体レーザー媒質、励起ランプ、集光器を冷却する冷却水回路とを備えた固体レーザー装置において、前記冷却水回路は、固体レーザー媒質を冷却する冷却水回路と前記励起ランプおよび前記集光器を冷却する冷却水回路とに完全に分離独立され、各回路それぞれに貯水タンク、除塵フィルターおよび脱イオンフィルターが設けられていることを特徴とする固体レーザー装置。

IPC (3件)：

H01S 3/042 ,  F25D 9/00 ,  C02F 1/00 ZAB

FI (3件)：

F25D 9/00 B ,  C02F 1/00 ZAB L ,  H01S 3/04 L

Fターム (16件)：

3L044AA04 ,  3L044BA06 ,  3L044CA13 ,  3L044DB01 ,  3L044KA04 ,  3L044KA05 ,  5F072AB01 ,  5F072AK01 ,  5F072AK03 ,  5F072JJ05 ,  5F072JJ09 ,  5F072PP01 ,  5F072TT01 ,  5F072TT14 ,  5F072TT15 ,  5F072TT22