特許

J-GLOBAL ID：200903030644849734

粒子線照射装置及び粒子線照射方法

発明者： 岡崎 隆司 ,  藤巻 寿隆 ,  藤高 伸一郎 ,  藤本 林太郎 ,  藤井 祐介 ,  平本 和夫
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 春日 讓
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-127645
公開番号（公開出願番号）：特開2008-279159
出願日： 2007年05月14日
公開日（公表日）： 2008年11月20日
要約：

【課題】線量分布幅の小さいSOBPを重ね合わせてSOBPを形成する方式において、線量分布の体表から深い側の立下りが急峻なSOBPを形成できる粒子線照射装置及び粒子線照射方法を提供することにある。【解決手段】エネルギー分布拡大装置部5は、第1の線量分布幅の小さいSOBPを形成するエネルギー分布拡大装置1と、線量分布の体表から最深部に急峻な第2の線量分布幅の小さいSOBPを形成するエネルギー分布拡大装置2とを備える。粒子線を照射してエネルギー分布拡大装置2により標的領域の体表からの最深部に線量分布の立下りが急峻なSOBPを形成し、最深部の次に深い領域から体表側の標的領域までを、エネルギー分布拡大装置1を複数回用いて、粒子線を照射して形成する線量分布幅の小さいSOBPを重ね合わせて、記標的領域に合う長さのSOBPを形成する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

粒子線を標的領域に照射する粒子線照射装置であって、 線量分布形状の異なる高線量領域を形成する複数のエネルギー分布拡大装置で、深さ方向の線量分布を合成することを特徴とする粒子線照射装置。

IPC (1件)：

A61N 5/10

FI (2件)：

A61N5/10 Q ,  A61N5/10 H

Fターム (7件)：

4C082AA01 ,  4C082AC05 ,  4C082AE01 ,  4C082AG02 ,  4C082AG09 ,  4C082AG43 ,  4C082AP03