特許
J-GLOBAL ID：200903030646200387
縮小投影露光装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
井ノ口 壽
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-083262
公開番号（公開出願番号）：特開平5-251302
出願日： 1992年03月05日
公開日（公表日）： 1993年09月28日
要約：
【要約】【目的】 縮小投影露光装置の内部において、レチクルマスクへの浮遊塵や搬送系および駆動系の摺動部からの発塵の付着を防ぐことにある。【構成】 レチクルマスク1をレチクルカセットケース2に収納したまま、レチクル搬送装置4によりレチクルカセットライブラリ3から装置内を移動させる。これにより、レチクルマスク1は、レチクル塵芥検査装置5およびレチクルステージ6などのユースポイント以外では、外気に曝されない。従って、装置内の浮遊塵や搬送系および駆動系の摺動部からの発塵の付着を防いでいる。
請求項（抜粋）：
レチクルマスクを収納するためのレチクルマスク収納手段と、前記レチクルマスクを収納したままの状態で前記レチクルマスク収納手段を予め定められた位置へ搬送するためのレチクル搬送装置と、前記レチクル搬送装置により運ばれた前記レチクルマスクを前記レチクルマスク収納手段より取り出して塵芥を検査するためのレチクル塵芥検査装置と、前記検査の後に前記レチクル塵芥検査装置から運ばれてきた前記レチクルマスクを前記レチクルマスク収納手段より取り出して露光処理するためのレチクルステージとを備えた縮小投影露光装置。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
