特許

J-GLOBAL ID：200903030655298330

クリーニングガス組成物

発明者： 佐藤 雅道 ,  飯田 貴志 ,  富岡 洋 ,  茂木 栄作 ,  福島 守之
出願人/特許権者： 関東電化工業株式会社
代理人 (1件)： 古谷 馨 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-059016
公開番号（公開出願番号）：特開平7-273088
出願日： 1994年03月29日
公開日（公表日）： 1995年10月20日
要約：

【要約】【目的】 薄膜形成時に目的物以外に堆積もしくは付着したSi化合物をプラズマレスで効率よく除去するクリーニングガス組成物を提供する。【構成】 フッ化ハロゲン化合物1種以上とハロゲン化水素、更に必要により窒素酸化物よりなるクリーニングガス組成物。

請求項（抜粋）：

フッ化ハロゲン化合物およびハロゲン化水素よりなるSi化合物の堆積物または付着物を除去するためのクリーニングガス組成物。

IPC (4件)：

H01L 21/3065 ,  H01L 21/203 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/31

FI (3件)：

H01L 21/302 N ,  H01L 21/302 F ,  H01L 21/31 B

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開平3-293726
  
• 半導体製造装置の清浄方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-088599   出願人：富士通株式会社