特許

J-GLOBAL ID：200903030672887153

半導体基板の洗浄液

発明者： 杉原 康夫 ,  田中 一成 ,  佐久間 郁江
出願人/特許権者： 三菱瓦斯化学株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-256718
公開番号（公開出願番号）：特開平6-112178
出願日： 1992年09月25日
公開日（公表日）： 1994年04月22日
要約：

【要約】【目的】 半導体基板の洗浄に好適に用いられる洗浄液を得る。【構成】 酸性もしくはアルカリ性の過酸化水素に対し、多価アルコール、もしくはその酸化体から選ばれる1種以上を含有させる。

請求項（抜粋）：

酸性もしくはアルカリ性の過酸化水素に対し、一般式【化1】 HOCH2-(CHOH) n - CH2OH (n=0〜10)で示される多価アルコール、もしくはその酸化体から選ばれる1種以上を含有させることを特徴とする洗浄液。

IPC (2件)：

H01L 21/304 341 ,  C11D 7/18

引用特許：

審査官引用 (1件)

• カーペット及び類似のものを消毒する方法及びそのために使用する水溶液組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-119475   出願人：ビー・エイ・エス・エフコーポレーション